Wir haben erfolgreich eine Präzision hergestellt7075 Aluminium Halbleiter Hohlraum Komponentemit einem spezialisiertenZweifarbiger Anodisierungsprozess mit natürliche und schwarze eloxierte Oberflächenfür einen Halbleitergerätehersteller. Diese fortgeschritteneOberflächenbehandlungDie Lösung ermöglicht die visuelle Differenzierung von Funktionszonen und erhöht die Verschleißbeständigkeit an kritischen Schnittstellen bei gleichzeitiger präziser ästhetischer Kontrolle für Halbleiterkammeranwendungen.
| Projektname | 7075 Aluminium Halbleiter Hohlraum Komponente |
| Schlüsselmetrik | Spezifikation |
| Maßtoleranz | ±0,02 mm (kritische Schnittstellen) |
| Ebenheit | ≤0.01mm (Dichtflächen) |
| Material | Aluminium 7075-T6 |
| Oberflächenbehandlung | Zweifarbige Anodisierung: Natürlich (ungefärbt) + Schwarz (MIL-A-8625 Typ II) |
| Oberflächenrauheit | Ra≤1.6μm (Dichtflächen) |
| Bearbeitungsprozess | PräzisionCNC Fräsen + selektive Anodisierung |
Jede Komponente wurde umfassend geprüft mitCMM Messungfür Ebenheit (≤0,01mm) und Maßgenauigkeit (±0,02mm), ergänzt durchÜberprüfung der Dicke der eloxierten Beschichtung (15-25μm), Farbkonsistenz Inspektion und Maskierung Grenze visuelle Inspektion.
Diese Lösung zeigt unsere Expertise inFortgeschrittene Herstellung von Halbleiterkomponenten mit selektiver OberflächenbehandlungIdeal für:
✓ Halbleiterprozesskammern ✓ Komponenten von Vakuumausrüstungen ✓ Funktionale Zonendifferenzierungsanwendungen ✓ Hochverschleißkritische Schnittstellenkomponenten
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Name |
Anwendbare Materialien |
Farben |
Kann auf |
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Aluminium, Stahl, Edelstahl |
Ra 0,8μm-Ra 3,2μm |
Alle Nachbearbeitungen |
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Aluminium |
Klar, schwarz, grau, rot, blau, grün, orange, gold |
Medienstrahlung, Tumbling, Alodin* |
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