Componente de cavidad de semiconductores de acero inoxidable de precisión 304: fresado de alta precisión con estricta perpendicularidad y control de planos

Hemos fabricado con éxito una alta precisiónComponente de cavidad de semiconductores de acero inoxidable 304para una aplicación de cámara de proceso de semiconductores. Este componente crítico de la cámara de vacío exige excepcionalesperpendicularidadandplanopara garantizar un sellado fiable y una alineación precisa de componentes en entornos de fabricación de semiconductores exigentes.

Visión general del proyecto

Puntos destacados técnicos clave

• Control geométrico ultra-estricto : Logradoplano ≤0.005mmsobre superficies de sellado yperpendicularidad ≤0.01mmentre características críticas, asegurando un sellado al vacío libre de fugas y una alineación precisa de componentes en conjuntos de cámaras de semiconductores.
• Innovación de procesos:
  • Tratamiento térmico de alivio del estrésEl recocido de alivio de tensión de pre-mecanizado elimina las tensiones residuales del material, evitando la distorsión geométrica durante las operaciones de acabado.
  • Estrategia de acabado multietapaLos pasos de acabado áspero, semi-acabado y ultra-precisión con parámetros de corte optimizados logran una planura y perpendicularidad de sub-micras.
  • Fijación de baja tensiónLas soluciones de fijación personalizadas minimizan la distorsión de la pieza de trabajo durante la sujeción, preservando la integridad geométrica a lo largo del proceso de mecanizado.
• Integridad de la superficie:
  • El acabado de precisión entregaRa≤0.8μmacabado superficial en superficies de sellado críticas.
  • Los parámetros de mecanizado controlados minimizan el endurecimiento del trabajo y los defectos superficiales.

Verificación de calidad

Cada componente fue sometido a una inspección exhaustiva utilizandoMedición CMMpara la planicidad (≤0.005mm), la perpendicularidad (≤0.01mm) y la precisión dimensional, complementada por la prueba de rugosidad de la superficie (Ra≤0.8μm) y la inspección visual para la integridad de la superficie.

Aplicaciones de la industria

Este proyecto demuestra nuestra experiencia encomponentes de cámara de vacío semiconductor de precisiónIdeal para:
✓ Cámaras de proceso de semiconductores ✓ Equipo de deposición al vacío ✓ Sistemas de grabado por plasma ✓ Conjunto de cámaras CVD/PVD

¿Por qué asociarse con nosotros?

• Probadoexperiencia en fresado de ultraprecisiónpara tolerancias geométricas exigentes
• Integradotratamiento térmico de alivio del estrésandfijación de baja tensiónCapacidades
• 12+ años deMecanizado de precisiónexperiencia en los sectores de equipos de semiconductores